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蔡司扫描电镜 SIGMA300场发射扫描电镜

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  • 蔡司扫描电镜 SIGMA300场发射扫描电镜

  • 产品分类:扫描电子显微镜

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    蔡司公司最新推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,将低电压成像技术发挥到了极致,采用适宜的探针电流范围,降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合,多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间,提高效率。

产品简介:

蔡司SIGMA 300场发射扫描电镜

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 世界顶级光学品牌,可见光学和电子光学的领导者。其电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥)和ZEISS。1965年推出世界第一台商业化扫描电镜;1985年推出世界上第一台数字化扫描电镜。EVO系列电镜是高性能、功能强大的高分辨应用型扫描电子显微镜。MA 10用于材料领域,LS 10用于生命科学领域。该系列电镜采用多接口的大样品室和艺术级的物镜设计,提供高低真空成像功能,可对各种材料表面作分析,并且具有业界领先的X射线分析技术。革命性的Beamsleeve的设计,确保在低电压条件下提供高分辨率的锐利图像,同时还可以进行准确的能谱分析。样品台为五轴全自动控制。标准的高效率无油涡轮分子泵能够满足快速的样品更换和无污染(免维护)成像分析。

用途:

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。

SIGMA 300场发射扫描电镜技术介绍:

分辨率: 1.2nm @15 kV   2.2nm @1kV

放大倍数:10-1,000,000×

加速电压:调整范围:0.02-30 kV(无需减速模式实现)

探针电流: 4pA-20nA (40nA&100nA可选)

低真空范围: 2-133Pa (Sigma 300VP可用)

样品室: 365 mm(φ),275mm(h)

样品台:5轴优中心全自动   

X=125mm

Y=125 mm

Z=50 mm

T=-10o-90o

R=360o 连续

系统控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制

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